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Máquina de limpieza láser Principio y aplicación

Jun 12, 2018

Fregado con láser Los exfoliantes tradicionales tienen una variedad de métodos de limpieza, principalmente con agentes químicos y métodos mecánicos para la limpieza. Conforme a las regulaciones de protección ambiental cada vez más estrictas en China y la creciente concienciación de la gente sobre la protección y seguridad del medio ambiente, los tipos de productos químicos que pueden utilizarse en la producción industrial y la limpieza serán cada vez menos.

Encontrar un método de limpieza más limpio y no invasivo es un problema que debemos tener en cuenta. La limpieza con láser se caracteriza por la ausencia de limpieza, sin contacto, efectos no térmicos y objetos adecuados para diversos materiales. Se considera que es la solución más confiable y más eficaz. Al mismo tiempo, la limpieza con láser puede resolver los métodos de limpieza tradicionales. Problema sin solución

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Principio de limpieza laser

El proceso de limpieza con láser pulsado de Nd: YAG se basa en las características de los pulsos de luz generados por el láser, según la reacción fotofísica causada por la interacción entre el haz de alta intensidad, el láser de pulso corto y la capa de contaminación. El principio físico se puede resumir como sigue

a. El haz emitido por el láser es absorbido por la capa de contaminación en la superficie a tratar.

segundo. La absorción de energía grande forma un plasma en rápida expansión (gas inestable altamente ionizado), que genera ondas de choque.

do. Las ondas de choque contaminan y eliminan los contaminantes.

re. El ancho del pulso de luz debe ser lo suficientemente corto para evitar la acumulación de calor que destruye la superficie tratada.

mi. Los experimentos muestran que cuando un óxido está presente en la superficie del metal, el plasma se genera en la superficie del metal

El plasma se genera solo cuando la densidad de energía está por encima del umbral, lo que depende de la capa contaminante o la capa de óxido eliminada. Este efecto de umbral es muy importante para la limpieza efectiva del material base. Hay un segundo umbral para la presencia de plasma. Si la densidad de energía excede este umbral, el material base será destruido. Para realizar una limpieza efectiva en la premisa de garantizar la seguridad del material base, los parámetros del láser deben ajustarse de acuerdo con la situación, de modo que la densidad de energía del pulso de luz se encuentre estrictamente entre dos umbrales.

Cada pulso láser elimina un espesor definido de la capa de contaminación. Si la capa de contaminación es gruesa, se requieren múltiples pulsos para la limpieza. El número de pulsos necesarios para limpiar la superficie depende del grado de contaminación de la superficie. Generado por dos umbrales: un resultado importante es el autocontrol de la limpieza. Los pulsos de luz con una densidad de energía superior al primer umbral rechazarán directamente los contaminantes hasta que se alcance el material del sustrato. Sin embargo, debido a que su densidad de energía es más baja que el umbral de daño del material base, la base no está dañada.

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