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Láser tecnología de limpieza

Aug 24, 2018

Para decirlo simplemente, es utilizar la vibración de alta frecuencia generada por una cierta longitud de onda del láser para romper el accesorio en la superficie del objeto; la alta temperatura instantánea generada por el láser hace que el material adjunto para despegarse de la superficie del sustrato, logrando el propósito de limpieza.

Objetos de limpieza láser incluyen capas contaminadas, capas de pintura, moho capas y capas de adherencia en la superficie de cualquier material. Sus aplicaciones incluyen: capa superficial de la pintura metal, limpieza de moldes y soldadura eliminación conjunta, óxidos, eliminación de manchas de aceite, restauración y conservación de artefactos históricos.

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Laser limpieza alcanza el retiro superando la vinculación del material del substrato para los accesorios superficiales. El principal mecanismo de acción incluye los siguientes aspectos:

1. remoción de salpicaduras de líquido: la superficie del material adjunto no alcanza la temperatura de gasificación y existe instantáneamente en la forma de una fina capa de líquido, mientras que la fuerza de reacción generada por la expansión instantánea del gas superficial y la fuerza que sopla del gas proceso fuerza el depósito del líquido para chapotear. Para lograr el efecto de la eliminación;

2, la eliminación de líquido splash: no alcanza la temperatura de gasificación y existe en forma de una fina capa de líquido, mientras que la fuerza de reacción generada por la expansión instantánea del superficie gas y soplar la superficie del material adjunto la fuerza de la fuerza de gas de proceso el depósito líquido a splash para conseguir el efecto de la eliminación;

3. eliminación de evaporación vaporización: láser de energía causa vaporización o evaporación de depósitos en el sustrato;

4. remoción de plasma: el generado por el láser de alta densidad de energía instantánea de alta temperatura genera un gas de alta temperatura entre el depósito y el material de sustrato. El gas continúa absorber la energía del láser para formar un plasma de alta temperatura, y el plasma absorbe la energía y al instante se expande para generar una explosión. La onda de choque generada por la explosión aplasta la capa de adherencia;

5. eliminación de plasma: el generado por el láser de alta densidad de energía instantánea de alta temperatura genera un gas de alta temperatura entre el depósito y el material de sustrato. El gas continúa absorber la energía del láser para formar un plasma de alta temperatura, y el plasma absorbe la energía y al instante se expande para generar una explosión. La onda de choque generada por la explosión aplasta la capa de adherencia;

6. eliminación de la ablación suave: ablación del Laser de suave se define como el fenómeno de la migración en masa, erosión o pérdida de la superficie del material debido a diversos mecanismos bajo la irradiación de láser de baja potencia densidad. La ablación suave a menudo ocurre en laser limpieza de capas de adhesión orgánica, y su acción es principalmente la reacción química.

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El láser de Nd: YAG pulsado, proceso de limpieza se basa en las características de los pulsos de luz producidos por el láser, basado en las reacciones fotofísicas causadas por la interacción de rayos de alta intensidad, corta pulsos láseres y capas contaminadas. Sus principios físicos pueden resumirse como sigue:

1. la absorción de gran energía forma un rápida expansión plasma (un gas altamente ionizado inestable) que genera una onda de choque;

2. la onda expansiva hace que los contaminantes se convierten en fragmentos y es rechazada;

3, el ancho de pulso de luz debe ser lo suficientemente corto para evitar la acumulación de calor de la superficie dañada de la superficie tratada;

4. experimentos han demostrado que cuando hay un óxido en la superficie del metal, el plasma se genera en la superficie del metal.

5. experimentos han demostrado que cuando hay un óxido en la superficie del metal, el plasma se genera en la superficie del metal.

El plasma se genera sólo cuando la densidad de energía está por encima de un umbral, que depende de la capa contaminada u óxido se eliminan. Este efecto de umbral es importante para una limpieza eficaz garantizando la seguridad de los materiales del sustrato. También hay un segundo umbral para la presencia de plasma. Si la densidad de energía supera este umbral, se destruirá el material del substrato. Para asegurar una limpieza eficaz bajo la premisa de garantizar la seguridad de los materiales del substrato, los parámetros del láser deben ajustarse según la situación para que la densidad de energía del pulso de luz es estrictamente entre dos umbrales.

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